SLA (Stereolithografie) is een additief productieproces dat werkt door een UV-laser op een vat met fotopolymeerhars te richten. Met behulp van computerondersteunde productie- of computerondersteunde ontwerpsoftware (CAM/CAD) wordt de UV-laser gebruikt om een voorgeprogrammeerd ontwerp of vorm op het oppervlak van het fotopolymeervat te tekenen. Fotopolymeren zijn gevoelig voor ultraviolet licht, dus de hars wordt fotochemisch gestold en vormt een enkele laag van het gewenste 3D-object. Dit proces wordt voor elke laag van het ontwerp herhaald totdat het 3D-object voltooid is.
CARMANHAAS zou de klant het optische systeem kunnen aanbieden dat voornamelijk bestaat uit een snelle galvanometerscanner en F-THETA-scanlens, straalexpander, spiegel, enz.
355 nm galvoscannerkop
| Model | PSH14-H | PSH20-H | PSH30-H |
| Watergekoelde/afgedichte scankop | Ja | Ja | Ja |
| Opening (mm) | 14 | 20 | 30 |
| Effectieve scanhoek | ±10° | ±10° | ±10° |
| Trackingfout | 0,19 ms | 0,28 ms | 0,45 ms |
| Stapresponstijd (1% van volledige schaal) | ≤ 0,4 ms | ≤ 0,6 ms | ≤ 0,9 ms |
| Typische snelheid | |||
| Positionering / sprong | < 15 m/s | < 12 m/sec | < 9 m/sec |
| Lijnscannen/rasterscannen | < 10 m/sec | < 7 m/s | < 4 m/sec |
| Typisch vectorscannen | < 4 m/sec | < 3 m/sec | < 2 m/sec |
| Goede schrijfkwaliteit | 700 cps | 450 cps | 260 cps |
| Hoge schrijfkwaliteit | 550 cps | 320 cps | 180 cps |
| Precisie | |||
| Lineariteit | 99,9% | 99,9% | 99,9% |
| Oplossing | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad |
| Herhaalbaarheid | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad |
| Temperatuurafwijking | |||
| Offsetafwijking | ≤ 3 urad/℃ | ≤ 3 urad/℃ | ≤ 3 urad/℃ |
| Qver 8 uur lange termijn offsetafwijking (na waarschuwing van 15 minuten) | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad |
| Bedrijfstemperatuurbereik | 25℃±10℃ | 25℃±10℃ | 25℃±10℃ |
| Signaalinterface | Analoog: ±10V Digitaal: XY2-100-protocol | Analoog: ±10V Digitaal: XY2-100-protocol | Analoog: ±10V Digitaal: XY2-100-protocol |
| Vereiste ingangsvermogen (DC) | ±15V@ 4A Max. RMS | ±15V@ 4A Max. RMS | ±15V@ 4A Max. RMS |
355 nmF-Theta Lenses
| Onderdeelbeschrijving | Brandpuntsafstand (mm) | Scanveld (mm) | Maximale toegang Pupil (mm) | Werkafstand (mm) | Montage Draad |
| SL-355-360-580 | 580 | 360x360 | 16 | 660 | M85x1 |
| SL-355-520-750 | 750 | 520x520 | 10 | 824,4 | M85x1 |
| SL-355-610-840-(15CA) | 840 | 610x610 | 15 | 910 | M85x1 |
| SL-355-800-1090-(18CA) | 1090 | 800x800 | 18 | 1193 | M85x1 |
355 nm straalexpander
| Onderdeelbeschrijving | Uitbreiding Verhouding | CA invoeren (mm) | Uitgang CA (mm) | Huisvesting Diameter (mm) | Huisvesting Lengte (mm) | Montage Draad |
| BE3-355-D30:84,5-3x-A(M30*1-M43*0,5) | 3X | 10 | 33 | 46 | 84,5 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D33:84,5-5x-A(M30*1-M43*0,5) | 5X | 10 | 33 | 46 | 84,5 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D33:80,3-7x-A(M30*1-M43*0,5) | 7X | 10 | 33 | 46 | 80,3 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D30:90-8x-A(M30*1-M43*0,5) | 8X | 10 | 33 | 46 | 90,0 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D30:72-10x-A(M30*1-M43*0,5) | 10X | 10 | 33 | 46 | 72,0 | M30*1-M43*0,5 |
355 nm spiegel
| Onderdeelbeschrijving | Diameter (mm) | Dikte (mm) | Coating |
| 355 Spiegel | 30 | 3 | HR@355 nm, 45° AOI |
| 355 Spiegel | 20 | 5 | HR@355 nm, 45° AOI |
| 355 Spiegel | 30 | 5 | HR@355 nm, 45° AOI |
